Secteur :

Auvergne-Rhône-Alpes

Domaine de compétence :

Bureaux d'études
Chimie / Physique des Matériaux
Chimie Analytique
Chimie Organique
Formulation
Hydrologie
Production
Qualité / Santé / Sécurité / Environnement

Véhicule nécessaire :

Non

ALTERNANCE DEVELOPPEMENT DE PROCEDES DE DEPOT PAR ALD H/F

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Date de début du contrat

2021 09 01

Durée du contrat

24 ou 36 Mois

Descriptif de la mission

DEVELOPPEMENT DE PROCEDES DE DEPOT PAR ALD

Notre structure est un organisme public de recherche.
Basé principalement à Grenoble et Chambéry, notre Laboratoire est un acteur majeur de la recherche européenne entièrement dédié aux nouvelles technologies de l'énergie.
Le service des dépôts (SDEP) est en charge du développement des procédés permettant le dépôt de couches minces fonctionnelles visant à améliorer les performances des dispositifs existants ou répondant à un besoin d'innovation pour créer de nouvelles architectures de composants électroniques.

Sujet de l'alternance :
La technologie de dépôt par couche atomique (ALD) est particulièrement adaptée à la réalisation de couches très minces (1 à 30nm) permettant un recouvrement extrêmement uniforme dans des architectures complexes (ratio d'aspect élevé), et gagne en puissance dans le contexte actuel de miniaturisation des composants électroniques. Ce type de dépôt est basé sur la réaction séquentielle d'au moins 2 précurseurs réagissant de manière autolimitée sur une surface, garantissant une uniformité parfaite du dépôt et un contrôle atomique de l'épaisseur déposée. Le développement de ces procédés nécessite donc une connaissance approfondie des propriétés physicochimiques et de la réactivité des précurseurs chimiques utilisés, ainsi que des propriétés de surface du matériau déposé.

Il s’agira d’améliorer les procédés de dépôts existants ainsi que de mettre au point des nouveaux procédés de dépôts dans un équipement de dépôt par ALD récemment acquis.

Vous pourrez participer activement aux réflexions dans le choix des précurseurs et mettre en place des plans d’expérience visant à améliorer les paramètres du dépôt (températures, pressions, flux, pression partielle des précurseurs,…) afin d’obtenir des couches minces ayant les propriétés requises pour l’application visée (uniformité, épaisseur, densité optique, résistivité, phase cristalline,…).

Vous serez également formé sur plusieurs équipements de caractérisation (ellipsométrie, réflectométrie des rayons X, diffraction des rayons X, XPS, AFM et spectroscopie Raman) ainsi que sur l’exploitation des données analytiques associées.

***ATTENTION, POUR CETTE OFFRE, VOUS DEVEZ OBLIGATOIREMENT POSTULER EN PARALLÈLE SUR LE LIEN EN BAS DE PAGE****

Profil recherché 

Bac+5 - Diplôme École d'ingénieurs

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